阿斯麦High-NA EUV光刻机引领半导体技术新风向 荷兰阿斯麦公司宣布,他们的首台采用0.55数值孔径投影光学系统的高数值孔径极紫外光刻机已经成功印刷出首批图案,这是整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。这一成就让人们对... 光刻孔径刻机晶体管半导体euvasml艾司摩尔阿斯麦hig 科技2024-04-18 10:35